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      pmos是指n型襯底、p溝道,靠空穴的流動(dòng)運(yùn)送電流的mos管。全稱(chēng) : positive channel metal oxide semiconductor;別名 : positive mos。
      基本信息:
      pmos是指n型襯底、p溝道,靠空穴的流動(dòng)運(yùn)送電流的mos管全稱(chēng) : positive channel metal oxide semiconductor別名 : positive mos金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)(mos)晶體管可分為n溝道與p溝道兩大類(lèi), p溝道硅mos場(chǎng)效應(yīng)晶體管在n型硅襯底上有兩個(gè)p+區(qū),分別叫做源極和漏極,兩極之間不通導(dǎo),源極上加有足夠的正電壓(柵極接地)時(shí),柵極下的n型硅表面呈現(xiàn)p型反型層,成為連接源極和漏極的溝道。改變柵壓可以改變溝道中的空穴密度,從而改變溝道的電阻。這種mos場(chǎng)效應(yīng)晶體管稱(chēng)為p溝道增強(qiáng)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管。如果n型硅襯底表面不加?xùn)艍壕鸵汛嬖趐型反型層溝道,加上適當(dāng)?shù)钠珘?,可使溝道的電阻增大或減小。這樣的mos場(chǎng)效應(yīng)晶體管稱(chēng)為p溝道耗盡型場(chǎng)效應(yīng)晶體管。統(tǒng)稱(chēng)為pmos晶體管。

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